StartseiteFörderungProjekteEntwicklung der Interferenzlithografie mit extrem ultravioletter Strahlung zur Herstellung von nanoskaligen plasmonischen Strukturen und Erforschung dieser als Kernelement von Terahertz Strahlungsquellen

Entwicklung der Interferenzlithografie mit extrem ultravioletter Strahlung zur Herstellung von nanoskaligen plasmonischen Strukturen und Erforschung dieser als Kernelement von Terahertz Strahlungsquellen

Laufzeit: 01.06.2017 - 31.05.2019 Förderkennzeichen: 01DK17028
Koordinator: Rheinisch-Westfälische Technische Hochschule Aachen - Fakultät 4 - Maschinenwesen - Lasertechnik - Lehrstuhl für Technologie Optischer Systeme

Hauptziel des Vorhabens ist der Aufbau einer langfristigen Kooperation zwischen der deutschen Forschungsgruppe der RWTH-Aachen und der ukrainischen Forschungsgruppen des NAS der Ukraine. Die Forschungseinrichtungen weisen komplementäre Stärken auf, was neue Forschungsmöglichkeiten für alle Partner eröffnet. Im gemeinsamen Vorhaben werden daher neuartige plasmonische Bauelemente entwickelt und untersucht. Durch regelmäßige gegenseitige Besuche wird die Zusammenarbeit der Partner ermöglicht und intensiviert. Die durchgeführten Untersuchungen und der aktive Informationsaustausch werden es erlauben, ein gemeinsames Projekt im Horizon 2020 Programm der europäischen Union zu beantragen.

Quelle: Bundesministerium für Bildung und Forschung (BMBF) Redaktion: DLR Projektträger Länder / Organisationen: Ukraine Themen: Förderung Physik. u. chem. Techn.

Projektträger