Untersuchung und Einstellung der Graphenelektroden von lösungsprozessierbaren Metalloxid Dünnfilmtransistoren für die low-cost-Elektronik(CMOT)

Innerhalb des CMOT Projekts soll die hohe elektrische Leitfähigkeit verbunden mit einer hohen Transparenz von Graphen genutzt werden, um es als Elektrodenmaterial einzusetzen. Die Austrittsarbeit der Graphenelektroden soll durch gezielte Dotierung eingestellt und so an die Bauelementanforderungen angepasst werden. Ziel ist es den Kontaktwiderstand zu reduzieren und ein grundlegendes Verständnis des Graphen/Metalloxid Kontakts zu bekommen. Dadurch soll die Leistungsfähigkeit von MOTFTs maßgeblich gesteigert werden. Ein weiteres zentrales Ziel der RUB ist die Entwicklung einer neuen laserbasierten Technologie zur Reduktion der Prozesstemperaturen. Als Koordinator wird die RUB das Vorhaben erfolgreich vorantreiben, abstimmen, sichtbar machen und Folgeprojekte anstoßen. Das gesamte Arbeitsprogramm des Vorhabens gliedert sich in sieben Arbeitspakete. Die Arbeitspakete 4-7 werden von der RUB koordiniert. Dabei erfolgt die gesamte Präparation, aufbauend auf der Lasertechnologie (RUB-LAT) wie auch auf der konventionellen Halbleitertechnologie (RUB-WNE) mit Ausnahme der Randentschichtung in Bochum. Auch die topografische (LAT, WNE), optische (LAT) und elektrische (WNE) Charakterisierung wird von der RUB durchgeführt. Aus der Bauelement-Charakterisierung werden Rückschlüsse auf die Prozessführung erarbeitet, die Präparation sukzessive optimiert und das Potential und die Grenzen des gewählten Ansatzes bestimmt. Dahingegen sind die Materialentwicklung, die Hardwareentwicklung und die Randentschichtung nicht im Arbeitsprogramm der RUB enthalten und werden von den Industriepartnern abgedeckt. Die RUB übernimmt desweiteren die Koordination des Arbeitsprogramms und initiiert Projekttreffen zur Abstimmung, Diskussion und gemeinsamen Entwicklung von Lösungsansätzen.