Verbundprojekt: Fertigungsprozesse integrierter Schaltungen mit bisher unerreichten Strukturgrößen von bis zu 5 nm - TAKE5 -; Teilvorhaben: EUV Beleuchtungsoptik für 5 nm Projektionssysteme

Das strategische Ziel des Vorhabens ist darauf gerichtet, die Performanz von EUV Projektionsoptiken so zu entwickeln, dass sie den Anforderungen der rasant fortschreitenden Skalierung lateraler Strukturgeometrien der Halbleiterindustrie gerecht wird. Zeiss SMT wird im Arbeitspaket Lithografie des ECSEL Projektes TAKE5 mitwirken, in dem für den 5nm Knoten unter anderem innovative lithografische Techniken, dabei insbesondere die EUV Belichtungstechnik, entwickelt werden sollen. Der Beitrag von Zeiss SMT besteht darin, technische Grundlagen für die Herstellung eines für den 5nm Knoten geeigneten Beleuchtungssystems (BS) zu erarbeiten. Schwerpunkte sind dabei das Optikdesign, die Thermalarchitektur, die Mechatronik, die Herstellungstechnologien der optischen Komponenten, die benötigten Metrologietechniken, die Integrationstechnik für das BS sowie Charakterisierungsverfahren. Der Arbeitsplan sieht eine Gliederung in mehrere Arbeitspakete vor. Das Arbeitspaket Projektmanagement koordiniert, repräsentiert und veröffentlicht die Zeiss SMT Aktivitäten. Im Arbeitspaket Optikdesign wird das Design des neuen Beleuchtungssystems (BS) erarbeitet. Zuvor sind die Systemspezifikationen bereitzustellen. Ziel ist, ein BS zu entwickeln, dass einem sich in Entwicklung befindlichen anamorphotischem Projektionsobjektiv optimal angepasst ist und dieses ergänzt. Weitere Arbeitspakete betreffen die Thermalarchitektur, das mechanische Design und die Mechanikkonstruktion, die Entwicklung der mechatronischen Komponenten, die Abscheidetechniken für Multireflexionsschichten, die Herstellungstechnologie für die optischen Komponenten und die Beleuchtungsspiegel, das Integrationsverfahren des BS, sowie die Metrologie für die optischen Komponenten und das Gesamtsystem. In einem weiteren Arbeitspaket werden Verfahren zur Performancebewertung des BS erarbeitet, z.B. für die Homogenität der Pupille, die Intensität in der Maskenebene, die Transmission und das Streulicht.