Das „Who is Who“ der Siliziumchemie kommt vom 3. bis 8. August 2014 an der Technischen Universität Berlin beim „17th International Symposium on Silicon Chemistry” (ISOS XVII) zusammen.
Zu diesem Nukleationsportal für einen schnelleren Transfer von Ergebnissen aus der Grundlagenforschung in die Anwendung werden 600 Siliziumchemiker aus Forschung und Industrie erwartet. Die Themen reichen von der molekularen Grundlagenforschung über materialwissenschaftliche Neuerungen wie bioinspirierte Materialien bis hin zur Oberflächenchemie und Lösungsvorschlägen für eine nachhaltige chemische Energieumwandlung mit Hilfe von siliziumbasierten Katalysatoren. Die Tagung wird gemeinsam mit den „7th European Silicon Days“ veranstaltet. Kooperationspartner ist die Gesellschaft Deutscher Chemiker (GDCh).
Die Chemie des Siliziums, des zweithäufigsten Elements der Erdkruste, hat eine technologisch herausragende Bedeutung erlangt. Und so werden in Berlin neben experimentellen und theoretischen Forschungsarbeiten auch neue technische Anwendungen diskutiert. Die Basis bilden Arbeiten von 57 eingeladenen hochrangigen Wissenschaftlern aus drei Kontinenten, die der Einladung der beiden Professoren der TU Berlin Matthias Drieß (Fachgebiet für Metallorganische Chemie und Anorganische Materialien) und Martin Oestreich (Fachgebiet für Organische Chemie) gefolgt sind.
Dazu zählt einer der meist zitierten Forscher über siliziumhaltige Materialien mit fraktalen Strukturen, der Israeli Professor David Avnir von der Hebräischen Universität Jerusalem. Zu nennen sind ferner die beiden US-Amerikaner Professor Paul Chirik (Princeton University), der neuartige Hydrosilylierungskatalysatoren auf Basis von Eisenkomplexen als eine wichtige Alternative für teure Platinkatalysatoren entwickelt hat, und Professor Dr. Scott Denmark (University of Illinois), der in der Totalsynthese von Naturstoffen mit Organosiliziumbausteinen Bahnbrechendes geleistet hat. Auch Professor Shigehiro Yamaguchi (Nagoya University) zählt zu den Plenarvortragenden. Er gilt als großes Nachwuchstalent in der siliziumbasierten Materialienchemie für schaltbare molekulare optoelektronische Systeme. Seine Forschungsergebnisse über oligomere Silole haben eine neue Generation von elektrisch leitfähigen Polymeren hervorgebracht. Die beiden deutschen Plenarvortragenden sind Professor Gernot Frenking von der Universität Marburg und Professor Hans-Joachim Freund vom Fritz-Haber-Institut der Max-Planck-Gesellschaft in Berlin.
Zusätzlich zum klassischen Vortrags- und Poster-Programm hat Drieß im Rahmen der ISOS XVII eine neue Plattform für junge Silizium-Chemiker ins Leben gerufen: das „Silicon Youth Valley“. Dies stieß bereits im Vorfeld der Tagung auf hohe internationale Resonanz. Es konnten 36 besonders engagierte und talentierte Studenten und Doktoranden ausgewählt werden, die sich und ihre Forschungsergebnisse in einem neuen Format präsentieren werden – im Rahmen eines Silicon Science Slam „Si Slam“ und mit speziellen Poster-Beiträgen „Si&me“, in denen neben dem chemischen Element Silizium („Si“) der Forscher selbst („me“) im Vordergrund steht.
Die ISOS-Tagungsreihe wurde vor 50 Jahren, 1964, mit dem „1st International Symposium on Organosilicon Chemistry“ in Prag ins Leben gerufen. Die Konferenz findet seitdem regelmäßig alle drei Jahre in verschiedenen Städten der Erde – auf wechselnden Kontinenten – statt. Wissenschaftler aus aller Welt kommen zusammen, um sich auf der ISOS über die technologisch sehr bedeutsame Chemie des Siliziums auszutauschen. Die bedeutende Stellung der ISOS für die Siliziumchemie kommt auch dadurch zum Ausdruck, dass im Rahmen der Veranstaltung der hochrenommierte „WACKER Silicone Award“ des Münchner Chemiekonzerns WACKER – neben dem Kipping Award der American Chemical Society eine der höchsten Auszeichnungen für Siliziumchemiker – vergeben wird.
