Verbundprojekt: Metrologie für die Halbleiter-Herstellung mit Industrie 4.0 - MADEin4 -; Teilvorhaben: Verbesserung der Kontaminationskontrolle

Das Ziel des Vorhabens ist die Verbesserung der Nachweisgrenzen von für die Halbleiterindustrie wichtigen (Ultra)-Spurenelementen, welche sich momentan nur bedingt und mit hohem Aufwand quantifizieren lassen. Zu diesen Elementen zählen u.a. Phosphor, Schwefel, Silizium, aber auch Germanium und Arsen. Erst eine akkurate Quantifizierung auch kleinster, unerwünschter Mengen an diesen Elementen in den verwendeten Prozesschemikalien aber auch in den halbfertigen Produkten ermöglicht eine effiziente Fertigung und stellt höchstmögliche Leistung der Endprodukte sicher. Die induktiv-gekoppelte Plasma-Massenspektrometrie wird bereits für diese Aufgabe eingesetzt, scheitert jedoch momentan an den gestiegenen Anforderungen sowohl durch zu hohe Untergründe als auch durch eine zu geringe Sensitivität des Messverfahrens. Dementsprechend sollen im Rahmen des Vorhabens technische Lösungen zur Überwindung dieser Schwierigkeiten entwickelt und unter realen Bedingungen getestet werden. Das Ziel ist es, der Halbleiterindustrie ein "fit for purpose"-Geräte inklusive geeigneter Software an die Hand zu geben, welches die zukünftigen Herausforderungen dieser Industrie erfüllt oder sogar übertrifft.