StartseiteLänderEuropaNorwegenVerbundprojekt: Herstellung industrietauglicher Graphen-Wafer zur Verwendung in CMOS Prozessen; Teilprojekt: In-line Qualitätskontrolle von 200mm Graphen-Wafern

Verbundprojekt: Herstellung industrietauglicher Graphen-Wafer zur Verwendung in CMOS Prozessen; Teilprojekt: In-line Qualitätskontrolle von 200mm Graphen-Wafern

Laufzeit: 01.10.2016 - 31.03.2020 Förderkennzeichen: 01QE1645
Koordinator: Park Systems GmbH

Das Verbundprojekt zielt darauf ab die Produktion von Graphen-Wafern zu optimieren um dieses Material in ausreichender Menge und Qualität für die industrielle Fertigung von elektronischen Komponenten verfügbar zu machen. Die Projektpartner decken die vollständige Prozesskette der Wafer-Herstellung ab. Die Accurion GmbH ist als Entwickler und Anbieter von Dünnschichtmesssystemen für die Qualitätskontrolle der Wafer zuständig. Im Rahmen des Projektes muss ein Messsystem entwickelt werden welches kritische Parameter der Graphen-Beschichtung fertigungsnah kontrolliert. Dazu gehören zum Beispiel Schichtdicke, Homogenität oder Defektfreiheit. Als besondere Anforderungen gelten die Substratgrößen bis zu 300mm Durchmesser, der Gesamtdurchsatz von einem Wafer pro dreißig Minuten und die Reinraumumgebung.

Verbund: E! 10581 CMOS-GRAPH Quelle: Bundesministerium für Bildung und Forschung (BMBF) Redaktion: DLR Projektträger Länder / Organisationen: Spanien Norwegen Themen: Förderung Innovation

Projektträger