Verbundprojekt: Technologien für die neueste 2nm-Mikroelektronik - IT2 -

Zur Erfüllung der neuen metrologischen Herausforderungen der Produktion von Halbleiterstrukturen, am 2-nm-Technologieknoten werden Messwerkzeuge mit sub-nm Längerauflösung für die Qualifizierung der Prozessschritte benötigt. Auch wenn Europa nicht mehr führend in die Herstellung von Halbleitern involviert ist, haben Europäische Ausrüstungs- und Materialzulieferer sowie EDA-Anbieter (Electronic Design Automation) mit ihrer Spitzentechnologie immer noch - und auch zunehmend - führende Positionen auf dem Weltmarkt. Im Rahmen dieses Projektes unterstützt die PTB die Weiterentwicklung der TEM Messtechnik von Thermo Fisher Scientific und der XRF Messtechnik von BRUKER JV Israel Ltd. am Standort Karlsruhe. Die inhaltlichen Aufgabenfelder von IT2 sind: 1. Demonstration von EUV-Lithographie Ausrüstung für einen Durchsatz > 200 wafer/h mit einer Overlay von unter 1 nm zur Erfüllung der double-patterning Anforderungen am 2-nm-Technologieknoten 2. Entwicklung der notwendigen in-line Messtechnik für die Prozesskontrolle am 2-nm-Technologieknoten 3. Untersuchung von funktionalen Halbleiterstruckturen (neue geometrische Realisierungen von Trasnsitoren) für den 2-nm-Technologieknoten Die PTB untersucht im Rahmen des 2. Aufgabenfeldes Verfahren zur Erhöhung des räumlichen Auflösungsvermögens von Röntgenfluoreszenzmessungen zur Elementspeziation im TEM (Thermo Fisher Scientific) und ermittelt Fundamentale Daten für die quantitative Auswertung von Röntgenfluoreszenzmessungen (BRUKER JV Israel Ltd.).