Projekte: Niederlande

Hier finden Sie eine Übersicht zu laufenden und abgeschlossenen Vorhaben der Projektförderung des BMBF mit Beteiligung der Niederlande. Aufgeführt werden Vorhaben mit einer Laufzeit bis mindestens zum Jahr 2018. Die Projekte werden in chronologischer Reihenfolge angezeigt (neueste zuerst).
Hinweis: Die Liste enthält sowohl Einzelprojekte, als auch Verbundprojekte, die aus mehreren Teilprojekten bestehen. Die Teilprojekte eines Verbundprojektes sind miteinander verlinkt.

Sie können die Projekte nach Start- und Endjahren und nach Fachbereichen filtern. Eine Mehrfachauswahl von Fachbereichen führt dazu, dass durch die Filter Projekte für alle ausgewählten Fachbereiche angezeigt werden („oder“-Auswahl), sie ist nicht auf Kombinationen beschränkt („und“-Auswahl).

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Laufzeit: 01.10.2018 - 31.01.2022 Förderkennzeichen: 16ESE0288

Verbundprojekt: Technologien für die nächste Generation höchstintegrierter Mikroelektronik - TAPES3 -; Teilvorhaben: Simulation anamorpher Abbildungsoptiken und zugehöriger Maskentechnologien

Das Projekt TAPES3 soll in Kooperation führender europäischer Firmen und Institutionen die Grundlagen für Fertigungstechnologien für den 3-nm-Knoten der Halbleiter-fertigung entwickeln. Die hierzu erforderliche Auflösung kann nur mit einer anamorphen…

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Laufzeit: 01.10.2018 - 31.01.2022 Förderkennzeichen: 16ESE0289

Verbundprojekt: Technologien für die nächste Generation höchstintegrierter Mikroelektronik - TAPES3 -; Teilvorhaben: EUV-Prüfoptiken und Masken für die 3nm Auflösung

Durch das ECSEL-Verbundvorhaben "TAPES3" soll die Europäische Industrie in die Lage versetzt werden Ausrüstungen für den 3nm Technologieknoten, der entsprechend Moore’s Law im Jahr 2022/2023 erwartet wird, zu entwickeln. Das Institut für…

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Laufzeit: 01.10.2018 - 31.01.2022 Förderkennzeichen: 16ESE0290

Verbundprojekt: Technologien für die nächste Generation höchstintegrierter Mikroelektronik - TAPES3 -; Teilvorhaben: Evaluierung und Optimierung neuer Materialien, die als Absorberschicht auf den EUV-Masken zum Einsatz kommen

Im Verbundprojekt TAPES3, das sich mit der Entwicklung neuer Technologien für die EUV-Lithographie befasst, mit der der 3 nm-Technologieknoten realisiert werden kann, werden von der optiX fab GmbH im einem Teilvorhaben neue Materialien untersucht,…

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Laufzeit: 01.10.2018 - 31.01.2022 Förderkennzeichen: 16ESE0291

Verbundprojekt: Technologien für die nächste Generation höchstintegrierter Mikroelektronik - TAPES3 -; Teilvorhaben: Referenzmetrologie für EUV Photomasken

Das übergeordnete Ziel von TAPES3 besteht darin, die Entwicklung der Halbleiterindustrie, dem Moorschen-Gesetze und ihrer weltweiten Roadmap folgend, zu unterstützen. Der Schwerpunkt wird auf der Forschung zur Realisierung der nächsten…

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Laufzeit: 01.10.2018 - 31.01.2022 Förderkennzeichen: 16ESE0292

Verbundprojekt: Technologien für die nächste Generation höchstintegrierter Mikroelektronik - TAPES3 -; Teilvorhaben: Entwicklung neuartiger Messverfahren und zugehöriger Technologien für den Aufbau einer effizienten Maskeninfrastruktur der…

Die RWTH Aachen wird im EU-Verbundprojekt TAPES3 zur Entwicklung der Maskeninfrastruktur für zukünftige lithographische Technologien beitragen. Die Unterstützung der Partnerunternehmen mit dem Know-how bei der Entwicklung von…

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Laufzeit: 01.10.2018 - 30.11.2022 Förderkennzeichen: 01ED1807A

JPND-Verbund PROTEST 70: Aufrechterhaltung der Proteinhomöostase bei Synukleinopathien und Tauopathien durch eine gezielte Modulation des Hsp70/Co-Chaperon-Netzwerkes - Teilprojekt Bukau

Die allmähliche Anhäufung von fehlgefaltetem a-Synuclein (a-Syn) und Tau ist charakteristisch für viele neurodegenerative Erkrankungen, die gemeinhin als Synucleinopathien bzw. Tauopathien bezeichnet werden. Molekulare Chaperone unterstützen die…

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Laufzeit: 01.10.2018 - 31.01.2022 Förderkennzeichen: 16ESE0293

Verbundprojekt: Technologien für die nächste Generation höchstintegrierter Mikroelektronik - TAPES3 -; Teilvorhaben: 3nm SiGe Substrat Wafer

Das Ziel von TAPES3 ist das Erkennen, Entwickeln und Demonstrieren der notwendigen Lithographie -, Metrologie -, EUV Masken – Verfahren sowie Bauelemente und zugehörige Prozess Module für den zukünftigen 3nm Technologieknoten. Siltronic unterstützt…

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Laufzeit: 01.10.2018 - 30.06.2022 Förderkennzeichen: 01ED1807B

JPND-Verbund PROTEST 70: Aufrechterhaltung der Proteinhomöostase bei Synukleinopathien und Tauopathien durch eine gezielte Modulation des Hsp70/Co-Chaperon-Netzwerkes - Teilprojekt Nussbaum-Krammer

Die allmähliche Anhäufung von fehlgefaltetem a-Synuclein (a-Syn) und Tau ist charakteristisch für viele neurodegenerative Erkrankungen, die gemeinhin als Synucleinopathien bzw. Tauopathien bezeichnet werden. Molekulare Chaperone unterstützen die…

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Laufzeit: 01.10.2018 - 31.01.2022 Förderkennzeichen: 16ESE0294

Verbundprojekt: Technologien für die nächste Generation höchstintegrierter Mikroelektronik - TAPES3 -; Teilvorhaben: Reinigungsprozesse und Infrastruktur für EUV Photomasken mit alternativen Absorbern

Die Themen in diesem Projektantrag sind Teil des europäischen Gesamtprojektes TAPES3 (Technology Advances for Pilot line of Enhanced Semiconductors for 3 nm), das aufgrund seiner Gesamtstruktur die Infrastruktur und die notwendigen Technologien…

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