StartseiteFörderungProjekteVerbundprojekt: Zuverlässigkeit und Qualität in der Mikroelektronikfertigung durch KI-basierte Fehleranalyse - FA2IR -

Verbundprojekt: Zuverlässigkeit und Qualität in der Mikroelektronikfertigung durch KI-basierte Fehleranalyse - FA2IR -

Laufzeit: 01.02.2024 - 31.01.2027 Förderkennzeichen: 16ME0920K
Koordinator: Infineon Technologies AG - Department IFAG F OP RD FO

Das Projekt FA2IR hat das Ziel die in Deutschland existierende Kompetenz in Fehleranalyse der Mikroelektronik durch enge Zusammenarbeit von Halbleiter- und Systemhersteller mit Geräteherstellern und Forschungsinstituten hinsichtlich digitalem Datenmanagement und künstlicher Intelligenz zu stärken und nachhaltig auf weltweitem Spitzenniveaus zu etablieren. Die Forschungen zur Einführung von neuen Methoden der Digitalisierung und künstlicher Intelligenz in der Fehleranalyse und Materialcharkterisierung ermöglichen Infineon schneller komplexere und zuverlässige Bauelemente zu erforschen, zu entwickeln und schließlich zu produzieren. Die anwendungsnahe Forschung zur Verbesserung der Fehleranalyse entlang der Value Chain vom Chip, zu Package und zum Board wird die Erarbeitung innovativer Produkte unterstützen. Infineon ist als Koordinator und einer der Treiber des Vorhabens in allen Themen des Verbundes involviert.

Verbund: Zuverlässigkeit und Qualität in der Mikroelektronikfertigung durch KI-basierte Fehleranalyse Quelle: Bundesministerium für Bildung und Forschung (BMBF) Redaktion: DLR Projektträger Länder / Organisationen: Niederlande Schweden Themen: Förderung Information u. Kommunikation

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