Projekte: Ungarn
Hier finden Sie eine Übersicht zu laufenden und abgeschlossenen Vorhaben der Projektförderung des BMBF mit Beteiligung Ungarns. Aufgeführt werden Vorhaben mit einer Laufzeit bis mindestens zum Jahr 2018. Die Projekte werden in chronologischer Reihenfolge angezeigt (neueste zuerst).
Hinweis: Die Liste enthält sowohl Einzelprojekte, als auch Verbundprojekte, die aus mehreren Teilprojekten bestehen. Die Teilprojekte eines Verbundprojektes sind miteinander verlinkt.
Sie können die Projekte nach Start- und Endjahren und nach Fachbereichen filtern. Eine Mehrfachauswahl von Fachbereichen führt dazu, dass durch die Filter Projekte für alle ausgewählten Fachbereiche angezeigt werden („oder“-Auswahl), sie ist nicht auf Kombinationen beschränkt („und“-Auswahl).
Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Autonome Aktinische EUV-Masken-Messtechnik (AA-EUV-MM)
Das Ziel des Verbundes SeNaTe im Rahmen von ECSEL ist es, europäische Hersteller von benötigten Fertigungs- und Messgeräten für die Anforderungen der 7nm IC Chip Technologie (N7) zu stärken, um sich für die 7nm Fertigung, die ab 2018 geplant ist,.…
Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology – SeNaTe -; Teilvorhaben: Elektronenstrahltechnik für 7nm Technologie
Ziel des Vorhabens ist die Entwicklung von elektronenoptischen Säulen für Inspektions- und Defect Review-Systeme, die Anforderungen des 7 nm Technologieknotens erfüllen. Das Vorhaben ist eingebettet in das europäische Ecsel / SeNaTe Programm, dessen…
Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Entwicklung radiometrischer, aktinischer Messtechnik für EUV-Masken und Pellicles
Das Ziel des Projektes ist es, europäischen Anbietern zu ermöglichen, Tool-Funktionen für die nächste Generation IC-Technologie (7 nm) zu realisieren. Die europäischen Lieferanten sind bereits in einer starken Marktposition müssen, um die Führung zu…
Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Reparatur und lokale Behebung von Defekten auf EUV Masken durch strahleninduzierte Oberflächenprozesse
Das Vorliegende Teilprojekt soll im Rahmen im Rahmen einer produktionstauglichen EUV-Lithographielösung für den 7nm-Knoten mehrere Teilaspekte beitragen: Die Kompensation von Topographiedefekten im Multilayer-Spiegel von EUV Masken. Die Einbindung…
CERAPHENE - Reib- und verschleißarme Graphen-Keramik-Komposite für tribologische Anwendungen in wässrigen Medien
Das übergeordnete Ziel der Arbeiten ist die Entwicklung von tribologischen Systemen auf der Basis von Graphenen und Keramik-Graphen-Nanokompositen sowie der Bewertung des technischen Nutzens in Gleitlagern und Gleitringdichtungen. Durch die im…
CERAPHENE - Reib- und verschleißarme Graphen-Keramik-Komposite für tribologische Anwendungen in wässrigen Medien
Übergeordnetes Ziel des beantragten Teilvorhabens ist die Erprobung und Bewertung des neuen Graphen-Keramik-Kompositwerkstoffs in Gleitringdichtungen und Pumpengleitlagern hinsichtlich der Einsatzfähigkeit, der Verschleißbeständigkeit (Lebensdauer,…
CERAPHENE - Reib- und verschleißarme Graphen-Keramik-Komposite für tribologische Anwendungen in wässrigen Medien
Für keramische Werkstoffe gehören Graphene als Füllstoff zu den wenigen sinnvollen Möglichkeiten, eine Verstärkung zu erzielen. Dabei sind deutlich verbesserte mechanische Festigkeiten, Verschleißbeständigkeit und auch eine erhöhte elektrische…
