Gasförmige Luftfremdstoffe (AMC) sind das Potenzial für Verbesserungen in der Halbleiterindustrie. In Anlehnung an die In-situ Reinraumüberwachung sollen nun auch die Produktionssystem überwacht werden. Ähnliches gilt für die Entwicklung der In-situ Partikelüberwachung. 1: Projektmanagement 2: Herstellung/Installation erforderlicher Hardware 3: Entwicklung definierter Verschmutzung Partikel 4: Entwicklung definierter Verschmutzung AMC 5: Entwicklung insitu - dry Partikel (iDPC) 6: Entwicklung insitu - liquid Particle (iLPC) 7: Entwicklung insitu - AMC 8: Korrelation insitu Partikel mit Standardtest 9: Entwicklung hochintegrierter iAMC/iLPC Steueralgorithmen 10: Bestimmen der Reinigungseffizienz 11: Entwickeln der Reinigungseffizienz für die 7nm-Technologie
Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Reingungsanlage für Wafertransportbehälter mit einer In-situ Kontaminationsüberwachung von gasförmigen Luftfremdstoffen (AMC) und Festkörperteilchen (Partikel)
Laufzeit:
01.04.2015
- 31.03.2018
Förderkennzeichen: 16ESE0041
Koordinator: Brooks Automation (Germany) GmbH
Verbund:
Seven Nanometer Technology
Quelle:
Bundesministerium für Bildung und Forschung (BMBF)
Redaktion:
DLR Projektträger
Länder / Organisationen:
Österreich
Belgien
Tschechische Republik
Frankreich
Ungarn
Israel
Niederlande
Themen:
Förderung
Information u. Kommunikation
Weitere Informationen
Weitere Teilprojekte des Verbundes
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Projektionsobjektiv mit Sieben Nanometer Auflösung
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: EUV Prüfoptiken und Masken
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Infrastruktur und Prozesse für die Reinigung von EUV Photomasken mit Pellicle
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Entwicklung von 7nm-Metrologie-Anlagen und Metrologiemethoden zur Unterstützung der Entwicklung der N7-Prozessmodule
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Simulations of imaging performance for 7nm optical systems
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Optik für Wafer- und Maskentechnik
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Improved reflection coatings for optical systems with 7 nm resolution
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Forschungen zu einem EUV-Pellicle Montage-und Demontagesystem
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Waferinspektion
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Entwicklung von Prozessen zur Reduzierung von Defekten für die 7nm Maskentechnologie
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Autonome Aktinische EUV-Masken-Messtechnik (AA-EUV-MM)
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology – SeNaTe -; Teilvorhaben: Elektronenstrahltechnik für 7nm Technologie
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Entwicklung radiometrischer, aktinischer Messtechnik für EUV-Masken und Pellicles
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Reparatur und lokale Behebung von Defekten auf EUV Masken durch strahleninduzierte Oberflächenprozesse