Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Autonome Aktinische EUV-Masken-Messtechnik (AA-EUV-MM)

Das Ziel des Verbundes SeNaTe im Rahmen von ECSEL ist es, europäische Hersteller von benötigten Fertigungs- und Messgeräten für die Anforderungen der 7nm IC Chip Technologie (N7) zu stärken, um sich für die 7nm Fertigung, die ab 2018 geplant ist,. stark zu positionieren. Die RI Research Instruments GmbH hat dabei im Verbund die Aufgabe die Partner durch Bereitstellung und Erforschung von aktinischer (bei 13.5 nm) Messtechniken auf Masken-blanks und Reticles zu unterstützen, sowie vorhandene und mögliche Messtechnikansätze hinsichtlich der gesteigerten Anforderung des N7 Knotens zu verbessern oder zu erweitern (Konzepten, Sensitivitäten und Genauigkeiten). Dazu wird RI: • Den Partnern ein Applikationslabor als erforderliche Infrastruktur für Forschung und Ent-wicklung verbesserter Maskentechnologien zur Seite zu stellen. Das Labor umfasst: unseren aktinischen Demo-Anlagen (EUV Reflektometer, ABIT Nanoskop, sowie Messplatz an EUV-Lampen) . • In enger Abstimmung mit den Partnern sollen konzeptionelle Ansätze der aktinischen Mas-ken- und Pellicle-Messtechnik in Machbarkeitsexperimenten und Konzeptstudien soweit ausgearbeitet werden, dass sie sich bei Bedarf schnell in Demoanlagen oder Demonstratoren für die Projektpartner umsetzen lassen. Zur Erfüllung der in der SeNaTe Verbundbeschreibung definierten Aufgaben umfasst der Arbeitsplan von RI im Wesentlichen die zwei großen Arbeitspakete • Applikationslabor für die Nutzung durch die Verbundpartner für gemeinsame experimentelle Untersuchungen, hinsichtlich Maskenkontamination, Maskenarchitektur, Maskenqualifizie-rung und dem Verhalten der Maskeneigenschaften über deren Lebenszyklus und insbe-sondere Reinigungsprozesse. • Konzept und Machbarkeitsstudien für neuartige und verbesserte Konzepte zur aktinischen Masken Charakterisierung.