Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Entwicklung von 7nm-Metrologie-Anlagen und Metrologiemethoden zur Unterstützung der Entwicklung der N7-Prozessmodule

ASYS wird hierzu zusammen mit Applied Materials Israel eine produktionstaugliche E-beam Inspektionsanlage mit hohem Durchsatz sowie einer guten nm-Auflösung entwickeln. ASYS mit HAP die Lösung einer Pellikelschicht für die EUV-Lithographie erarbeiten. Hierzu zählt insbesondere die Definition und Umsetzung einer machbaren Lösung für den automatisierten Aufbau einer vollständigen Abdeckung durch die Pellikelschicht zur Benutzung in der NXE3300 Anlage. Hierbei wird ASYS im Speziellen einen entsprechenden und dafür geeigneten Roboter entwickeln. Die Entwicklung eines hoch sensitiven Partikel-Scanners mit automatischem Handling zur Analyse der Reinheit des EUV-Maskentransports sowie des Handling der dafür vorgesehenen EUV-Behälters. Dieses Handling wird ASYS zusammen mit TNO erarbeiten. Arbeitspaket 3.2.3 - E-beam Wafer und Masken Inspektionsanlage. Folgende Leistungen sind in diesem Arbeitspaket enthalten: • Entwicklung einer produktionstauglichen E-beam Inspektionsanlage für Wafer und Masken mit hohem Durchsatz und guter nm-Auflösung Arbeitspaket 5.4.5 - Entwicklung einer EUV-Schutzfolien-Montageanlage. Folgende Leistungen sind in diesem Arbeitspaket enthalten: • Finden einer geeigneten Pellikelschicht für die EUV-Lithographie • Vorrichtung mit der Fähigkeit, die Pellikelschicht zu entfernen und durch eine neue zu ersetzen • ASYS wird einen entsprechenden und dafür geeigneten Roboter entwickeln Arbeitspaket 5.6 - Zusätzliche Partikel auf Masken durch Transport und Benützung . Folgende Leistungen sind in diesem Arbeitspaket enthalten: • Bereitstellung eines atmosphärischen Roboters. Dieser basiert auf der Vario-Serie mit einem speziell entwickelten Arm-Set um die N7-EUV-Masken Anforderungen an die Reinheit, Temperaturempfindlichkeit und Genauigkeit zu erfüllen • ASYS wird ihr Wissen für solche Roboteranforderungen anwenden um Partikelquellen im TNO Masken-Handler zu beseitigen und so das höchste Sauberkeitsniveau zu erzielen