Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Entwicklung radiometrischer, aktinischer Messtechnik für EUV-Masken und Pellicles

Das Ziel des Projektes ist es, europäischen Anbietern zu ermöglichen, Tool-Funktionen für die nächste Generation IC-Technologie (7 nm) zu realisieren. Die europäischen Lieferanten sind bereits in einer starken Marktposition müssen, um die Führung zu halten, entsprechenden Werkzeuge und Prozesse für die neue Gerätegeneration entwickeln. Die PTB beteiligt sich am Arbeitspaket WP5 des Gesamtprojektes. Ziel von WP5 ist es, fehlende Infrastruktur für EUV-Photomasken bereitzustellen. Die PTB ist hier mit ihrer radiometrischen EUV-Messtechnik beteiligt. Der Fokus liegt auf den Anforderungen in der Halbleiter-Fab für die Volumenfertigung am Technologieknoten 7 nm. Im Einzelnen adressiert WP5 folgende Punkte: 1) Die Kontamination von Masken unter Betriebsbedungen. Hier trägt die PTB mit einem speziellen neu zu erstellenden Messstand für die Messung von Kohlenstoffkontamination bei. 2) Verringerung der Defekte auf der Maskenrückseite 3) Alternative Maskenstrukturen. Hier sind EUV-Reflexionsmessungen bei der PTB notwendig und geplant. 4) Entwicklung eines Pellicles, Hier sind EUV-Transmissionsmessungen bei der PTB notwendig und geplant. 5) Kompensation und Reparatur von Multilayer-Defekten 6) Vermeidung von Partikelkontamination während Nutzung und Transport