Ziel des Vorhabens ist die Entwicklung von elektronenoptischen Säulen für Inspektions- und Defect Review-Systeme, die Anforderungen des 7 nm Technologieknotens erfüllen. Das Vorhaben ist eingebettet in das europäische Ecsel / SeNaTe Programm, dessen Inhalt die Entwicklung und Implementierung der für die 7 nm Technologie erforderlichen Prozesse und Systeme ist. Für den Einsatz in der 7 nm Technologie ist es erforderlich, die Stromdichte in der Elektronensonde zu erhöhen, um den Durchsatz zu erhöhen, sowie das Auflösungsvermögen zu erhöhen, um Defekte sichtbar machen zu können. ICT ist eine Tochtergesellschaft von Applied Materials Israel Ltd. (AMIL). AMIL entwickelt und produziert die Systemplattformen, Steuerungs- und Auswertungssoftware für die Inspektionssysteme und integriert die elektronenoptischen Säulen von ICT. Die Qualifizierung des Gesamtsystems erfolgt in Zusammenarbeit mit AMIL. Im Rahmen des Vorhabens wird ICT zwei Säulentypen für den 7 nm Einsatz optimieren. Einen Säulentyp für hohe Stromdichte und dafür optimierter Auflösung für die Elektronenstrahl-Inspektion, die eine hohe Scan-Geschwindigkeit erfordert. Der zweite Säulentyp wird für die neue Inspektionsanwendung high throughput defect Review eingesetzt, mit erhöhten Anforderungen an die Auflösung. Für beide Säulentypen werden jeweils zunächst optimierte Konfigurationen mit numerischen Simulationsmethoden ermittelt. Danach werden die Konfigurationen in mechanische Konstruktionen umgesetzt, die Teile werden gefertigt und montiert. Erprobung und Optimierung erfolgen auf Testständen bei der ICT. Dort werden auch eventuell erforderliche Korrekturmaßnahmen sowie Zuverlässigkeitsuntersuchungen durchgeführt. Zur Überprüfung der Leistungsfähigkeit werden die Säulen dann bei AMIL mit Unterstützung von ICT in Prototypen von Fertigungsmaschinen integriert, auf denen die Qualifizierung mit 7 nm Teststrukturen aus dem Excel / SeNaTe Projekt erfolgt. Der Abschluss des Projektes ist für 2018 geplant.
Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology – SeNaTe -; Teilvorhaben: Elektronenstrahltechnik für 7nm Technologie
Laufzeit:
01.04.2015
- 31.03.2018
Förderkennzeichen: 16ESE0049
Koordinator: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH
Verbund:
Seven Nanometer Technology
Quelle:
Bundesministerium für Bildung und Forschung (BMBF)
Redaktion:
DLR Projektträger
Länder / Organisationen:
Österreich
Belgien
Tschechische Republik
Frankreich
Ungarn
Israel
Niederlande
Themen:
Förderung
Information u. Kommunikation
Weitere Informationen
Weitere Teilprojekte des Verbundes
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Projektionsobjektiv mit Sieben Nanometer Auflösung
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: EUV Prüfoptiken und Masken
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Infrastruktur und Prozesse für die Reinigung von EUV Photomasken mit Pellicle
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Entwicklung von 7nm-Metrologie-Anlagen und Metrologiemethoden zur Unterstützung der Entwicklung der N7-Prozessmodule
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Reingungsanlage für Wafertransportbehälter mit einer In-situ Kontaminationsüberwachung von gasförmigen Luftfremdstoffen (AMC) und Festkörperteilchen (Partikel)
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Simulations of imaging performance for 7nm optical systems
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Optik für Wafer- und Maskentechnik
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Improved reflection coatings for optical systems with 7 nm resolution
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Forschungen zu einem EUV-Pellicle Montage-und Demontagesystem
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Waferinspektion
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Entwicklung von Prozessen zur Reduzierung von Defekten für die 7nm Maskentechnologie
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Autonome Aktinische EUV-Masken-Messtechnik (AA-EUV-MM)
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Entwicklung radiometrischer, aktinischer Messtechnik für EUV-Masken und Pellicles
- Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Reparatur und lokale Behebung von Defekten auf EUV Masken durch strahleninduzierte Oberflächenprozesse