Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Improved reflection coatings for optical systems with 7 nm resolution

Die Beteiligung der Fraunhofer Gesellschaft am SeNaTe Projekt soll vor allem die weltweit führende Position deutscher Industrieunternehmen im Bereich von Geräten für die Halbleiter-fertigung stärken und ausbauen. Das Fraunhofer Institut IWS wird mit den Arbeiten zur Ent-wicklung verbesserter Abscheideverfahren für Multischichten die Firma Zeiss SMT bei der Entwicklung von EUV-Projektionsoptiken unterstützen. Das Fraunhofer Institut ENAS trägt mit seinen Aktivitäten zur In-Situ-Analytik und Prozesskontrolle zur Weiterentwicklung einer innovativen Messtechnik bei. Das IWS wird Plasmaprozesse erforschen, die eine verbesserte Beschichtung von EUV-Spiegeln ermöglichen. Insbesondere werden Verfahren zur Herstellung von Spiegelschichten mit geringeren Streulichtanteilen, mit einstellbaren Dickengradienten und mit minimierten Schichteigenspannungen entwickelt. Das ENAS wird verschiedene Methoden der In-Situ-Diagnostik für Plasma-Strukturierungsprozesse miteinander kombinieren. Einen besonderen Schwerpunkt bilden dabei der Einsatz und die Weiterentwicklung der Quantenkaskadenlaser-Absorptionsspektroskopie.