Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology - SeNaTe -; Teilvorhaben: Optik für Wafer- und Maskentechnik

Das Teilvorhaben der JENOPTIK Optical Systems hat zwei wesentliche technischen Arbeitsziele: Zum einen die Entwicklung und Herstellung eines Demonstrators für die aktive Wellenfrontkorrektur im Abbildungstrahlengang eines optischen (kontaktlosen) Inspektionssystems für die Halbleiterindustrie. Ziel dabei ist, durch eine Verbesserung der Abbildungsleistung des optischen Systems kritische Defekte an Halbleiterstrukturen des 7nm-Knotens nachweisen zu können. Zum zweiten die Entwicklung neuer technologischer Lösungen für die Herstellung von DUV-Interferenzschichtsystemen, die eine hohe Stabilität der optischen Eigenschaften (Reflektivität, Polarisationseigenschaften) bei hohen UV-Lichtleistungen gewährleisten können. In den o.g. optischen Inspektionssystemen werden wesentliche Leistungsparameter von den Eigenschaften der verwendeten Antireflex- und Spiegelbeschichtungen bestimmt. Die optischen Inspektionssysteme detektieren i.d.R. von Defekten erzeugtes Streulicht. Da die Defekte nur noch wenige Nanometer groß sind, ist das (Nutz-)Signal extrem klein. Zur Unterdrückung von Falschlicht im Detektionskanal werden z.B. effiziente Antireflex-Beschichtungen benötigt. Um eine ausreichende Produktivität (durchmusterte Waferfläche pro Zeiteinheit) sicherzustellen, sind wegen der o.g. kleinen Streuquerschnitte sehr große UV-Lichtintensitäten erforderlich. Beide Arbeitspakete sind jeweils in drei Unterarbeitspakete aufgeteilt und mit vier Meilensteinen für die Erfolgskontrolle versehen. Die Meilensteine dienen zeitgleich dazu, die Arbeiten mit den europäischen Projektpartnern zu synchronisieren. Die detaillierte Planung ist der ausführlichen Vorhabenbeschreibung zu entnehmen.